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    進(jìn)口膠體磨跟國(guó)產(chǎn)膠體磨的比較

    產(chǎn)品型號(hào): CMD2000
    品  牌: 依肯
    • ≧1 臺(tái)
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-26
    詳細(xì)信息
     型號(hào):CMD2000  品牌:依肯  工作方式:高速萬(wàn)能研磨機(jī)  
     適用物料:化工 食品 藥品 醫(yī)藥 化妝品 乳  應(yīng)用領(lǐng)域:化工 食品 藥品 醫(yī)藥 化妝品 乳  加工批量:0-10000  
     驅(qū)動(dòng)功率:2.2 kw 重量:55 kg 驅(qū)動(dòng)方式:電機(jī)  
     作用對(duì)象:銑刀  重量:55 kg 驅(qū)動(dòng)方式:電機(jī)  
         IKNPP膠體磨和其他設(shè)備的區(qū)別比較
     詳情請(qǐng)咨詢公司銷售工程師  聶倩文   
      國(guó)內(nèi)xx品牌  廊坊 IKN  上海依肯 國(guó)內(nèi)xx品牌 七星
    型號(hào) JMS 50
     
    PP2000/4 JM-FB60
    圖片
     
     
     
     
     
     
    材質(zhì) /304/316/316L 不銹鋼 316L不銹鋼(食品級(jí)) /304/316/316L 不銹鋼
    功率KW 1.1 KW 1.5/2.2/4 KW 對(duì)膠體磨而言,在很多場(chǎng)合下處理高粘度、大顆粒物料,所以一般選擇比較大的功率電機(jī) 1.1 KW
    轉(zhuǎn)速50HZ/87HZ
    轉(zhuǎn)速基本相同
    目前是不通過(guò)變頻器來(lái)調(diào)節(jié),若通過(guò)變頻調(diào)節(jié),同時(shí)他們的軸承不能承受高速運(yùn)轉(zhuǎn)。一般在3000RPM
    這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。
    7890/13789RPM 可以通過(guò)變頻調(diào)速
    通過(guò)皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM
    (轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍,研磨的力度也是他們的3-4倍,這樣研磨的細(xì)度更小)
    目前是不通過(guò)變頻器來(lái)調(diào)節(jié),一般在3000RPM同時(shí)他們的軸承不能承受高速運(yùn)轉(zhuǎn)。
    這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。
    結(jié)構(gòu) 三道磨碎區(qū),一級(jí)為粗磨碎區(qū),二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū),三級(jí)為超微磨碎區(qū)。 三道磨碎區(qū),一級(jí)為粗磨碎區(qū),二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū),三級(jí)為超微磨碎區(qū)。
    雖然都是三級(jí)結(jié)構(gòu),但是他們的設(shè)計(jì)不同理念不同,形狀及齒列的結(jié)構(gòu)。
    三道磨碎區(qū),一級(jí)為粗磨碎區(qū),二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū),三級(jí)為超微磨碎區(qū)。
    磨頭結(jié)構(gòu)
     
    IKN 有多種的膠體磨頭
     
     

     

     
    溝槽是直線,同級(jí)的溝槽深度一樣
     


    溝槽是曲線,上下深度不一,上深下淺

    CMO 磨頭
    配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蝕。
     

     
     
     
     
     
     
     
     
     
     
     
    溝槽是直線,同級(jí)的溝槽深度一樣
     
    主要內(nèi)部結(jié)構(gòu)區(qū)別 我們的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨,而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。
    軸的振動(dòng)偏差
    這個(gè)和高速運(yùn)轉(zhuǎn)有相當(dāng)大的影響。偏差越大,就需要磨頭的間歇越大,那么粉碎的效果越差。
    0.1mm(靜止) 0.01mm (靜止)
    這與設(shè)備的設(shè)計(jì)和零件的加工精度有關(guān)
    0.1mm(靜止)
    齒列的深度   從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm
    范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
     
    ***大線速度
    如磨頭的相同直徑
     
    大約在10-15M/S V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S
    V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S
     
    大約在10-15M/S
    影響研磨效果因素 1 磨頭的形式(臥式和立式)
    2 磨頭頭的剪切速率
    磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(見(jiàn)磨頭結(jié)構(gòu))
    4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間
    5 循環(huán)次數(shù)
     
     
    研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
    • 研磨速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)  
                               g
      -轉(zhuǎn)子 間距 (m)
    由上可知,研磨速率取決于以下因素:
    • 磨頭的線速率
    • 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 (相對(duì)而言)
    速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60
     
    2.2.1 漿料穩(wěn)定性理論
    大部分的漿料都是屬于懸浮液體系。不穩(wěn)定的懸浮液在靜止?fàn)顟B(tài)下發(fā)生絮凝,并由于重力作用而很快分層,分散的目的就是要在產(chǎn)品的有效期內(nèi)抗絮凝、防止分層,維持懸浮顆粒的均勻分布,提高產(chǎn)品的穩(wěn)定性。
    2.2.1.1 懸浮液的絮凝理論
    絮凝作用即是在靜態(tài)(由于布朗運(yùn)動(dòng))或動(dòng)態(tài)(在剪切力作用下條件下,通過(guò)顆粒碰撞引起顆粒數(shù)目減少的過(guò)程。膠體系統(tǒng)中,如不考慮穩(wěn)定劑,顆粒間的相互作用主要有范德華(Vander Waals)引力;伴隨著帶電顆粒的庫(kù)侖(Coulombic)力(斥力或引力)。這些力的起因截然不同,Derjaguin Landau 在蘇聯(lián),Verwey Overbeek 在荷蘭分別獨(dú)立的提出 DLVO 理論,構(gòu)成了親液分散體系中絮凝作用經(jīng)典理論的基礎(chǔ),闡述了膠體懸浮體系的穩(wěn)定性主要與膠體顆粒間上述兩個(gè)獨(dú)立的相互作用的相對(duì)距離有關(guān)。
    2.2.1.2 懸浮液的分層理論
    分層是分散相在外力(重力或離心力)作用下,在連續(xù)相中上浮或下沉的結(jié)果。在忽略布朗運(yùn)動(dòng)效應(yīng)的靜態(tài)條件下,可用Stokes 定律來(lái)描述,即分散相球形顆粒由于重力的沉降速度 V 由下式確定:

    式中
    ρs -ρ為分散相與連續(xù)相的密度差,g 為重力加速度,d 為分散相顆粒直徑,μ為連續(xù)相的粘度。如果分散相顆粒的密度比連續(xù)相密度大,顆粒下沉,速度 V 為正值,反之,顆粒上浮,速度為負(fù)值。沉降速度大,漿料就容易分層。如果要保持體系穩(wěn)定,就必須降低沉降速度,對(duì)于特定的漿料可以通過(guò)減小分散相固體顆粒直徑 d。因?yàn)橹挥挟?dāng)粒徑減至連續(xù)相液體分子大小時(shí),顆粒才能穩(wěn)定、均勻地分散在液體中不發(fā)生分離。
    通過(guò)以上的分析我們可以看出,要提高懸浮液的穩(wěn)定性,分散相顆粒的粒徑應(yīng)盡量細(xì)小。但應(yīng)該指出,根據(jù)前人所做的大量研究發(fā)現(xiàn),隨著顆粒粒度的減小,雖然顆粒由重力引起的分離作用變?yōu)榇我囊蛩,但是由于顆粒之間的間距減小,顆粒之間的結(jié)合力(范德華力等)起到了重要決定性作用。另外,當(dāng)顆粒直徑小于某一細(xì)小尺寸時(shí),此時(shí),顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)效應(yīng)就不能忽略了,所以由于細(xì)小顆粒的布朗運(yùn)動(dòng),而使得顆粒之間產(chǎn)生激烈地碰撞。若不加穩(wěn)定劑,這些情況都會(huì)導(dǎo)致顆粒團(tuán)聚,對(duì)體系的穩(wěn)定是不利的。所以漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細(xì)越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據(jù)物料的特性與特點(diǎn),減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個(gè)較窄的尺寸范圍,并達(dá)到吸力與斥力的相互平衡,從而保證漿料體系的穩(wěn)定。
    2.2.2 團(tuán)聚與分散的關(guān)系
    漿料的團(tuán)聚是指原生的微細(xì)顆粒在制備、分散及存放過(guò)程中,相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。
    顆粒在液相介質(zhì)中表現(xiàn)為分散和團(tuán)聚兩種基本的行為。顆粒在液體介質(zhì)中的團(tuán)聚是吸附與排斥共同作用的結(jié)果,其根源是顆粒間的相互作用力。在懸濁液體系中,粉體顆粒的團(tuán)聚是吸附和排斥共同作用的結(jié)果。如果吸附作用大于排斥作用,粉體顆粒團(tuán)聚;如果吸附作用小于排斥作用,粉體顆粒則分散。在液體介質(zhì)中,粉體顆粒受力情況較復(fù)雜,不僅有像范德華力、靜電力、表面張力、毛細(xì)管力等產(chǎn)生團(tuán)聚的吸引力,而且在粒子的表面,還會(huì)產(chǎn)生雙電層靜電作用、溶劑化膜作用、聚合物吸附層的空間保護(hù)作用等使納米顆粒趨向于分散的斥力作用。
     
    顆粒在介質(zhì)中的穩(wěn)定分散一般包括以下過(guò)程:潤(rùn)濕、機(jī)械分散及分散穩(wěn)定。潤(rùn)濕通常指顆粒與顆粒之間的界面被顆粒與溶劑、分散劑等界面所取代的過(guò)程。機(jī)械分散是利用剪切力將大量顆粒細(xì)化、使團(tuán)聚體解聚、被潤(rùn)濕、包裹吸附的過(guò)程。分散穩(wěn)定是指將原生粒子或較小的團(tuán)聚體在靜電斥力、空間位阻斥力作用下來(lái)屏蔽范德華引力,使顆粒不再聚集的過(guò)程。團(tuán)聚體分散解聚的直接原因是受到剪切力和壓力的作用,剪切力在分散過(guò)程中起到了決定性的作用。
    2.2.3 團(tuán)聚體變形與破裂
    在研究流動(dòng)性質(zhì)隨時(shí)間和應(yīng)力的變化時(shí),一般要考察顆粒的結(jié)合與破裂。研究發(fā)現(xiàn),無(wú)論是顆粒的結(jié)合所必須得碰撞,還是多顆粒團(tuán)的破壞,都與顆粒大小有緊密的函數(shù)關(guān)系,也就是說(shuō),顆粒大小是影響流變和穩(wěn)定性的一個(gè)關(guān)鍵因素.
    在層流狀態(tài)下,流體中的物料團(tuán)聚體受層流剪切力作用。不考慮團(tuán)聚體的重力作用,物料團(tuán)聚體受剪切力t的作用與表面張力σ的作用。剪切作用的切向分tt的作用效果是使團(tuán)聚體發(fā)生旋轉(zhuǎn)的主要原因,而法向分力tn和表面張力則在團(tuán)聚體的內(nèi)部分別產(chǎn)生壓差,這兩種壓差綜合作用的結(jié)果就是使團(tuán)聚體的內(nèi)部產(chǎn)生變形,在其原有裂紋的區(qū)域上就會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力集中,并***終導(dǎo)致團(tuán)聚體的破碎與分散,分解成更小尺寸級(jí)別的顆粒。

    在湍流狀態(tài)下,流場(chǎng)的變化非常迅速,且存在著固體分散相與液體連續(xù)相之間的相互作用,例如由于固體相對(duì)液體相湍流具有的阻尼作用,使其脈動(dòng)強(qiáng)度降低,流場(chǎng)中流動(dòng)情況相當(dāng)復(fù)雜。所以為了簡(jiǎn)化起見(jiàn),在假定湍流是均勻的,并且是各向同性的基礎(chǔ)上,認(rèn)為液滴的破裂由湍流的脈動(dòng)效應(yīng)所引起的。在這種情況下,液滴受到的粘性剪切應(yīng)力可忽略,若兩相粘度和密度相差比較小,則在液滴表面將會(huì)產(chǎn)生振動(dòng),振動(dòng)將會(huì)使其形狀相對(duì)于平衡的球形而發(fā)生變化,當(dāng)變化的程度足夠大時(shí),液滴就會(huì)不穩(wěn)定,破裂成兩個(gè)或更多的小液滴,條件是液滴振動(dòng)的動(dòng)能足以提供破裂后所增加的表面能.
     
     
    作用力
     
    大約在14293-215440 S-1 F=23/0.7X1000=32857 S-1 
    F=40/0.7/X1000=57142 S-1
     
    而對(duì)CMO模塊頭,磨頭的間歇G理論可以無(wú)限小,但是由于高速的運(yùn)轉(zhuǎn),造成軸的振動(dòng),需要一定的間歇,作用力可以無(wú)限大。但實(shí)際上比膠體磨要好。
     
    這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于后者是前者的2-3
    大約在14293-215440 S-1
    流量 5-30KG/H 0-50 KG/H 10-50KG/H
    腔體夾套   有,可以進(jìn)行加熱或冷卻  
    速度調(diào)節(jié) 可以添加變頻器 進(jìn)口DANFOS變頻器 可以添加變頻器
    出入口 快接,法蘭,螺紋選擇 快接,法蘭,螺紋選擇 快接,法蘭,螺紋選擇
    體積 較大,
     
    適中 較大
    電機(jī) 國(guó)內(nèi)和ABB 電機(jī) 進(jìn)口ABB  電機(jī) 國(guó)內(nèi)和ABB 電機(jī)
    設(shè)計(jì) 分體設(shè)計(jì) 目前流行的分體設(shè)計(jì) 目前流行的分體設(shè)計(jì)和臥室設(shè)計(jì)
    密封  
    可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn)
    可選擇德國(guó)機(jī)械密封,
    轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)
     
    可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn)
    機(jī)械密封的使用壽命因素 在一般的情況下,我們的機(jī)械密封可以***大承受16bar 壓力,根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口***大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
     
    同時(shí)機(jī)械密封的使用壽命和以下因素有關(guān):
     
    滿足以下條件使得機(jī)械密封的使用壽命更長(zhǎng):
    • 可允許的壓力比率
    • 充份的冷卻和濕度
    • 材料的合適搭配.
     
    機(jī)械密封本身會(huì)產(chǎn)生磨損和破裂. 磨損得主要原因是:
    • 壓力差
    • 溫度
    • 分散物料的腐蝕性
    • 密封的材料
        IKN 膠體磨 國(guó)產(chǎn)膠體磨
    衛(wèi)生認(rèn)證   通過(guò)國(guó)際3A衛(wèi)生認(rèn)證,設(shè)計(jì)符合FDAEHEDG標(biāo)準(zhǔn)要求,更加適合出口藥品使用 以國(guó)內(nèi)GMP為主,內(nèi)銷為主
    機(jī)器材質(zhì)   與產(chǎn)品接觸部分均由不銹鋼316TL制成,包括研磨刀頭,為德國(guó)進(jìn)口鋼材,耐磨性更強(qiáng),產(chǎn)品穩(wěn)定性更好 一般為國(guó)內(nèi)304或者316制成,使用后,刀頭易于磨損,產(chǎn)品參數(shù)重復(fù)性不強(qiáng)
    產(chǎn)品效果   間距可調(diào),可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工 粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差
    密封類型   雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至***低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn) 單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
    工作腔體方式   立式,皮帶驅(qū)動(dòng),易于維護(hù),可有效保護(hù)馬達(dá)及齒輪箱,防止損壞
    符合流體流動(dòng)原理,易于清洗
    臥式或立式(馬達(dá)一體式),軸承部分受力較大,易于損壞,維護(hù)保養(yǎng)復(fù)雜,清洗苦難
    清洗   具有CIP/SIP在線清洗,在線殺菌功能,無(wú)需拆卸,機(jī)器設(shè)計(jì)無(wú)死角,立式結(jié)構(gòu)符合流體流動(dòng)原理,清洗更簡(jiǎn)便 通常情況,需要拆卸機(jī)器進(jìn)行清洗
    概述   公司100年的歷史,經(jīng)驗(yàn)豐富,如使用得當(dāng),IKN 機(jī)器使用壽命很長(zhǎng),故障率低,穩(wěn)定性強(qiáng),國(guó)內(nèi)組裝,進(jìn)口品質(zhì),實(shí)惠價(jià)格 投資價(jià)格雖便宜,產(chǎn)品設(shè)計(jì)不成熟,使用中故障較多,費(fèi)時(shí)費(fèi)力費(fèi)料費(fèi)財(cái)
    保質(zhì)期 1 1 1
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