均勻分散不沉降無機材料納米氧化鋁催化劑水性漿料研磨機具有設(shè)計緊湊、實用新型，外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點、是處理精細物料*理想的加工設(shè)備。

氧化鋁的核心應(yīng)用

氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點，已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無機膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、有機溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

氧化鋁的分散問題

近年來，已將超細氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高，單個超細顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài)，顆粒之間因為相互吸引而團聚，易于失去超細粉體特有的性能，因此超細氧化鋁粉體的分散，是超細氧化鋁粉體走向?qū)嵱没�的關(guān)鍵。

在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團聚，出現(xiàn)絮凝，分層等現(xiàn)象，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

當物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的唯一因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦CMSD2000系列研磨分散機，獨特的結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機一體化設(shè)備，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高。

氧化鋁水性漿料分散設(shè)備推薦

結(jié)合多家化工企業(yè)案例，我司推薦CMSD2000系列研磨式超高速分散機進行氧化鋁的研磨和分散，一般可獲得超細的物料粒徑，一般為1μm左右。當然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%