無菌膠原貼敷料濕法高速分散機(jī)、醫(yī)藥級敷料均質(zhì)分散機(jī)、皮膚涂抹膏劑濕磨高剪切分散機(jī)、祛痕祛印敷料研磨分散機(jī)、高膠原蛋白敷料研磨分散機(jī) 隨著生活水平的提高，人們對美 的需求也越來越高。 雖然膠原貼敷料在 醫(yī)學(xué)美容皮膚科治療上的臨床應(yīng)用剛剛開始 ，但因其療效確切 ，依從性好 ，不良反應(yīng)少 ，安全性好等優(yōu)點(diǎn) ，且其臨床應(yīng)用也有明確 的理論依據(jù) ，所以得到了廣大臨床醫(yī)生和患者的認(rèn)可。

性能特點(diǎn)

面部皮膚過敏是臨床上常見 的皮膚病 ，臨床表現(xiàn)以顏面出現(xiàn)紅斑、丘疹 、水皰 、皮膚干燥增厚為主并伴有瘙癢、灼熱或疼痛。 其發(fā)病是因各種原因產(chǎn)生反應(yīng)而導(dǎo)致皮膚的炎癥 ，引起細(xì)胞受損 ，組織結(jié)構(gòu)改變 ，而產(chǎn)生一系列的臨床表現(xiàn)。 膠原蛋 白貼敷料對 面部過敏性皮炎如脂溢性皮炎、日光性皮炎、接觸性皮炎 、濕疹等治療效果 明顯 ，體現(xiàn)在 自覺瘙癢癥狀減輕 ，皮損面積下降、紅斑及丘疹明顯消退。

目前，膠原的提取方法主要有堿法、酸法、鹽法及酶法。酸酶混合法是目前生產(chǎn)上常用的提取方法，膠原產(chǎn)品療效在臨床應(yīng)用上進(jìn)一步證明了其有效性及安全性，因此，臨床上對于此類產(chǎn)品的需求量迅速上升且對產(chǎn)品的安全性提出了更高的要求，目前企業(yè)能夠規(guī)�；�生產(chǎn)膠原相關(guān)產(chǎn)品，但產(chǎn)品多數(shù)只能以達(dá)到微生物限度級別，即使少數(shù)能夠達(dá)到無菌級別，但也只能以干品的形式提供給臨床應(yīng)用，導(dǎo)致了液體膠原類產(chǎn)品在臨床上的應(yīng)用受到限制。

無菌膠原貼敷料的制備方法為將動物的筋腱進(jìn)行脫脂、切片、消毒、粉碎，再進(jìn)行酸溶酶解、離心去沉淀得膠原原液；再調(diào)整膠原原液的濃度和粘度后，進(jìn)行超濾純化和濃縮得高純度高濃度的膠原液；將其冷凍干燥、粉碎、輻照滅菌后進(jìn)行配液裝入含有非織造布鋁箔袋中即可。本發(fā)明保持了膠原的活性，避免了膠原因輻照而變性或者發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)；本發(fā)明采用超濾純化代替?zhèn)鹘y(tǒng)的透析純化，縮短了純化的時間；采用自動化系統(tǒng)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的半自動操作，避免了人手污染，保證了產(chǎn)品的潔凈度、純度、生物活性。

  依肯研磨分散機(jī)是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

CM2000系列膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。    IKN公司另外一項獨(dú)特的創(chuàng)新，就是錐體磨CMSD2000系列，它的設(shè)計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項創(chuàng)新，CMSD2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。

       研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨的效果更加理想。

無菌膠原貼敷料濕法高速研磨分散機(jī)技術(shù)參數(shù) 

CMSD2000 系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表 

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。 
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%