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石墨烯剝離方法及剝離得到的高質(zhì)量剝層材料

產(chǎn)品型號：

CMSD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥398567.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-12-26

詳細(xì)信息

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型號：CMSD2000	品牌：IKN	工作方式：顆粒研磨機
適用物料：石墨烯	應(yīng)用領(lǐng)域：化工	加工批量：0-3000
驅(qū)動功率：2.2-37 kw	研磨籃容量：10000	介質(zhì)尺寸：100
行程：100	外形尺寸：1X1X2 m	重量：200 kg
驅(qū)動方式：電動	作用對象：鋸刀	重量：200 kg

石墨烯剝離方法及剝離得到的高質(zhì)量剝層材料，石墨烯剝離方法，機械剝離法、晶體外延法、化學(xué)氣相沉積法等

目前石墨烯的制備方法有機械剝離法、晶體外延法、化學(xué)氣相沉積法、特定活性劑的石墨插層剝離法以及氧化石墨烯的高溫和化學(xué)還原法。機械剝離法雖然能得到質(zhì)量非常高且單層石墨烯，但是這種方法僅限于理論研宄，不適合大規(guī)模應(yīng)用制備。氣相沉積法雖然能制備結(jié)構(gòu)完整石墨烯，但產(chǎn)量太低，而且成本較高。目前使用*廣泛的一種方法是氧化還原法。氧化還原法的過程主要是:先對天然石墨進(jìn)行氧化得到氧化石墨，由于片層間引入大量含氧基團，通過簡單分散可獲得氧化石墨烯，再經(jīng)過高溫還原或化學(xué)還原得到還原的石墨烯。這種方法雖然有利于實現(xiàn)量產(chǎn)制備石墨烯，但是這種方法由于氧化過程對石墨烯結(jié)構(gòu)破壞程度大，在很大程度上影響了其導(dǎo)電性能，從而限制了其在較多方面尤其是在導(dǎo)電材料的應(yīng)用。

還有通過先將石墨采用強酸等插層劑進(jìn)行插層處理制備得到插層石墨，亦即可膨脹石墨，然后對可膨脹石墨進(jìn)行微波或高溫?zé)崽幚砗蟀l(fā)生膨脹形成膨脹蠕蟲結(jié)構(gòu)，再進(jìn)行剝離得到石墨烯。但是這種過程所使用原料亦采用了酸性物質(zhì)對石墨片層之間通過化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行了插層處理，對其原始結(jié)構(gòu)仍會造成一定程度的破壞，從而影響*終所得石墨烯的性能。

一種物理膨脹剝離層 f材料的方法及剝離得到的高質(zhì)量剝層材料。插層劑和活化劑等原料與層狀材料均未發(fā)生化學(xué)作用，主要是通過強的物理沖擊作用克服范德華力實現(xiàn)層狀材料的膨脹剝離，制備得到的剝層材料的層數(shù)少且且質(zhì)量高。

工藝步驟

1 將層狀材料和插層劑混合，實現(xiàn)插層劑對層狀材料的浸潤；
2向步驟（1)混合得到的混合液中加入活化劑，使所述活化劑與所述插層劑發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)生的氣流對所述層狀材料的物理沖擊作用使層狀材料的片層發(fā)生剝離，得到剝層材料前驅(qū)體的分散液；
(3) 將步驟(2)得到的剝層材料前驅(qū)體的分散液與分散介質(zhì)混合，對得到的分散體系進(jìn) 行物理打散，得到剝層材料的分散液。

有點

層劑和活化劑之間劇烈反應(yīng)產(chǎn)生的氣流沖擊克服片層間的作用力，實現(xiàn)膨脹剝離，此通過沖擊使片層膨脹剝離的過程是物理過程，因而對原始層狀材料的結(jié)構(gòu) 破壞非常小，剝_制備得到的剝層材料質(zhì)量非常高。

石墨烯剝離方法及剝離得到的高質(zhì)量剝層材料，石墨烯剝離方法，機械剝離法、晶體外延法、化學(xué)氣相沉積法

研磨分散機的細(xì)化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

研磨分散機應(yīng)用領(lǐng)域：

化學(xué)工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。

食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋白粉，豆粕酶解等
日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底等。
醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液，膠囊，微球動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟等。
建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
新能源材料：石墨烯、碳納米管、碳纖維、鋰電池漿料、電池隔膜潤滑油等等

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。