銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導(dǎo)電銀漿對其組成物質(zhì)要求是十分嚴格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少，以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關(guān)系。銀粉的分散效果直接關(guān)系到銀漿的質(zhì)量。所以采用好的分散設(shè)備對銀粉的分散是至關(guān)重要的，當(dāng)然分散劑的應(yīng)用也是必不可少的。

管線式高剪切分散機就是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體、氣體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程。而在通常情 況下各個相是互不相溶的。當(dāng)外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來的強勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液）泡沫（氣體/液體）。從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù)，*終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

研磨分散機
是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
 
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研磨分散機

 CMD2000系列設(shè)備選型表

（詳情請接洽上海依肯  ）
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn).


CMD2000/4（PP系列）為研磨分散機的技術(shù)參數(shù)：功率4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s，電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 50 升/小時（水），重量55KG, 尺寸 (長寬高）((450X250X350)MM，PP使用雙機械密封，可24小時不停機連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對密封部分進行冷卻。通過變換模塊，可以實現(xiàn)多功能多用途。機械密封和機械設(shè)計符合3A健康標(biāo)準(zhǔn)，是中試和小批量生產(chǎn)的選擇。


高剪切分散機 分散混合設(shè)備 超聲波分散機 可應(yīng)用于多種粉體的分散，比如鋁粉，銀粉，金粉，鋅粉，炭黑，鈦白粉，白炭黑，硬脂酸鹽，金屬氧化物，光伏材料，半導(dǎo)體材料，防腐材料，防火材料等