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納米高速研磨分散機
詳細信息| 詢價留言型號:CMSD2000 品牌:IKN 工作方式:顆粒研磨機 適用物料:化工,醫(yī)藥,食品 應(yīng)用領(lǐng)域:食品,醫(yī)藥,化工 加工批量:100 驅(qū)動功率:30 kw 研磨籃容量:100 介質(zhì)尺寸:100 行程:10 外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 驅(qū)動方式:電動 作用對象:鋸刀 重量:400 kg 納米研磨分散機,納米高速研磨分散機,納米淹沒設(shè)備,10000轉(zhuǎn)研磨設(shè)備
納米材料研磨分散機,納米高剪切研磨分散機,超高速納米研磨分散機,研磨分散機(專利 ZL201520918133.7)納米研磨分散機適合處理比較難以分散的納米材料,超高的轉(zhuǎn)速及特殊設(shè)計的工作頭結(jié)構(gòu)都是納米研磨分散機在市場上備受推廣的關(guān)鍵,研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
納米研磨分散機是將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
納米研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到*低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
納米研磨分散機,有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送。
研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
型號
流量
L/H
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。
CMD2000系列設(shè)備選型表
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn).納米研磨分散機,納米高速研磨分散機,納米淹沒設(shè)備,10000轉(zhuǎn)研磨設(shè)備
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