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    先研磨分散、后超聲波分散碳納米管

    產(chǎn)品型號: IKN
    品  牌: CM2000
    • ≧1 臺
      ¥198567.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-26
    詳細信息
     型號:IKN  品牌:CM2000  工作方式:顆粒研磨機  
     適用物料:碳納米管  應用領域:化工  加工批量:1000  
     驅(qū)動功率:30 kw 研磨籃容量:1000  介質(zhì)尺寸:10  
     行程:10  外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 
     驅(qū)動方式:電動  作用對象:鋸刀  重量:400 kg 
    先研磨分散、后超聲波分散納米管    ,碳納米管應用于導電涂料、導電油墨、導電膠、鋰離子電池電極材料及其它復合物中,開發(fā)了高碳納米管含量、高流動性的碳納米管漿料,是經(jīng)濟型的分散產(chǎn)品
     


    碳納米管漿料由多壁碳納米管、碳納米管分散劑、液體介質(zhì)等三種成分組成,經(jīng)過特定的機械研磨設備和分散工藝,規(guī);厣a(chǎn)。
       

       我們供貨的漿料,是以工業(yè)級多壁碳納米管TNIM8為原料,液體介質(zhì)包括:水、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、異丙醇(IPA)、乙酸丁酯
    .
     
    一、碳納米管分散技術三要素
    二、分散劑用量推薦
    三、碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述
    四、超聲波分散設備使用建議及分散實例
    五、研磨分散設備使用建議
    碳納米管分散技術三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設備
    1、分散介質(zhì)
    1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料
    2)本PPT文件介紹的碳納米管分散技術,針對中、低粘度分散介質(zhì)
    2、分散劑
    1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構、極性、溶度參數(shù)等密切相關
    2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關
    3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,推薦使用TNEDIS 
    3、分散設備
    1)超聲波分散設備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制
    2)研磨分散設備:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管
    3)采用先研磨分散、后超聲波分散組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管
    分散劑用量推薦
    1、碳納米管比表面積與分散劑用量
    我們試劑級碳納米管分為單壁管(外徑<2nm)和多壁管。多壁管根據(jù)外徑不同,分為TNM1(外徑<8nm)、 TNM2 (外徑8-15nm)、 TNM3 (外徑10-20nm)、 TNM5 (外徑20-30nm)、 TNM7 (外徑30-50nm)、 TNM8 (外徑>50nm)。隨著外徑的增加,碳納米管的比表面積減小
    TNWDIS推薦用量:單壁管重量的3.5倍, TNM1 重量的1.0倍, TNM8 重量的0.2倍。其余用量參考調(diào)整
    2、碳納米管功能化與分散劑用量
    功能化后的碳納米管,更容易在水中分散。 通常,碳納米管羧基功能化后,分散劑的用量可以減少50%
    TNWDIS推薦用量:羧基化單壁管重量的1.5-1.8倍, 羧基化TNM1 重量的0.5倍, 羧基化TNM8 重量的0.1
    3、對于TNADISTNM8 的推薦用量是重量的0.2倍。對于TNEDIS, TNM8 的推薦用量是重量的1.2
    其余碳納米管分散劑用量可以參照調(diào)整
    碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述
    1、不含烷基酚聚氧乙烯醚 (APEO)的非離子表面活性劑,生態(tài)環(huán)保。歐洲國家自1976年起陸續(xù)制定了法規(guī)限制生產(chǎn)和使用APEO
    2、含有芳香基團,特別適合制備碳納米管水分散液。芳香基團與碳納米管管壁親和性好,易于吸附在管壁
    3、性能指標
    活性物質(zhì)含量:90%
    量:10%

    研磨分散機(專利 ZL201520918133.7)
     
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