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納米研磨機(jī),納米研磨設(shè)備
詳細(xì)信息型號(hào):CMSD2000 品牌:IKN 工作方式:顆粒研磨機(jī) 適用物料:化工,醫(yī)藥 應(yīng)用領(lǐng)域:化工 加工批量:1000 驅(qū)動(dòng)功率:30 kw 研磨籃容量:1000 介質(zhì)尺寸:100 行程:10 外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 驅(qū)動(dòng)方式:電動(dòng) 作用對(duì)象:鋸刀 重量:400 kg 14000轉(zhuǎn)研磨機(jī) 是是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
納米研磨機(jī)的
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域:
化學(xué)工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤(rùn)滑油、潤(rùn)滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,,炭黑,石墨烯,碳納米管,富勒烯,凝膠,溶膠,壓裂液 催化劑 纖維 等。
食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,蛋黃醬,沙拉醬,奶酪 食用菌絲,大豆 豆粕等日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級(jí)化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營(yíng)養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚(yú)肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,膠囊,微球,口服混懸液,動(dòng)物組織破壁,纖維素 等。
建筑工業(yè):各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業(yè):塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保的生產(chǎn)需要 。新能源材料:石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超級(jí)電容、石墨烯潤(rùn)滑油、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤(rùn)滑油等等
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器研磨分散機(jī)
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CMD 2000/5
3000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CMD 2000/10
8000
4,200
23
22
DN80/DN65
CMD 2000/20
20000
2,850
23
37
DN80/DN65
CMD 2000/30
40000
1,420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
120000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
納米研磨機(jī)的眼膜效果
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
研磨時(shí)間對(duì)粉體產(chǎn)品細(xì)度的影響一般而言,研磨時(shí)間越長(zhǎng),則研磨效果越好,
但顆粒的細(xì)化達(dá)到一定程度則很難再進(jìn)一步細(xì)化。因?yàn)殡S著顆粒粒度的減小,比表面積迅速增大,顆粒表面激活點(diǎn)增多,表面自由能增大,體系處于極不穩(wěn)定狀態(tài),微細(xì)顆粒間則彼此團(tuán)聚形成“假顆粒”,以降低比表面積;若再延長(zhǎng)研磨時(shí)間,輸入體系的能量則用于粉碎“假顆粒”,“假顆粒”粉碎后又很快重新團(tuán)聚,整個(gè)體系處于團(tuán)聚—磨細(xì)的動(dòng)態(tài)平衡中,從而大大降低了研磨能力和效率。
分散劑對(duì)粉體產(chǎn)品細(xì)度的影響
在超細(xì)研磨過(guò)程中,一方面物料顆粒接受施能被粉碎,另一方面被磨細(xì)顆粒因表面能增大又極易
團(tuán)聚在一起,形成“假顆粒”,“假顆粒”被粉碎后又團(tuán)聚。因此在研磨進(jìn)行到一定程度時(shí),過(guò)程已處于團(tuán)聚—磨細(xì)的動(dòng)態(tài)平衡中,研磨效率大大降低。分散劑是濕法超細(xì)研磨中的重要調(diào)節(jié)因素。對(duì)于超細(xì)磨,添加一定量的分散劑以后,因與物料間的吸附作用,改變了顆粒間的相互依從狀態(tài),使細(xì)顆粒物料保持分散狀態(tài),分散劑并能吸附在物料表面降低表面能,改善漿料的流變性,使研磨效率提高。
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