中試型膠體磨,實驗室中試型膠體磨,中試型實驗室膠體磨,德國中試型膠體磨,高速中試型膠體磨是比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上，研磨效果非常好，***高轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。

中試型膠體磨,實驗室中試型膠體磨,
 

實驗室中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

     實驗室中試型膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，實驗室中試型膠體磨用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細(xì)化。 物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。

      CM2000/4實驗室中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     公司另外一項獨特的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設(shè)計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進了一步。由于這項創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。 
    研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和***后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和***后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。
 

 

它們的主要區(qū)別

  CM2000/4（LP系列）為實驗室膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率1.5-2.2KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時（水），重量35KG,尺寸 (長寬高）(450X250X350)MM，LP使用軸封（PTFE 環(huán)），在正常的情況下，一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時連續(xù)使用，一般***多可以使用連續(xù)半個小時，這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定。LP也可以通過變換模塊，可以實現(xiàn)多功能多用途。是中試生產(chǎn)的***佳選擇。

   CM2000/4（LP系列）為220v實驗室膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率1.5 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓220V,機器產(chǎn)量為 0– 300 升/小時（水），重量35KG,尺寸 (長寬高）(450X250X350)MM，LP使用軸封（PTFE 環(huán)），在正常的情況下，一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時連續(xù)使用，一般***多可以使用連續(xù)半個小時，這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定。LP也可以通過變換模塊，可以實現(xiàn)多功能多用途。不需要冷卻水 (此款設(shè)備為特制型產(chǎn)品,適合一些只有220V明用電的環(huán)境使用)  因為工業(yè)型批次的膠體磨他們的速度和設(shè)計結(jié)構(gòu)決定沒有那么高的剪切力。而相對而言，管線式就沒有那么多的問題，他們可以保持相同的線速度和剪切力。此款設(shè)備是科研機構(gòu)、大專院校、衛(wèi)生*和產(chǎn)品制造等進行科學(xué)研究、產(chǎn)品開發(fā)、品質(zhì)控制及生產(chǎn)過程應(yīng)用的理想乳化機實驗設(shè)備。

   CM2000/4（PP系列）為中試型膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率2.2-4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s，電壓380V,機器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時（水），重量45KG, 尺寸 (長寬高）((450X250X350)MM，PP使用雙機械密封，可24小時不停機連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對密封部分進行冷卻。通過變換模塊，可以實現(xiàn)多功能多用途。機械密封和機械設(shè)計符合3A健康標(biāo)準(zhǔn)，是中試和小批量生產(chǎn)的***佳選擇。

IKN納米膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較：

• 轉(zhuǎn)速和剪切速率：IKN納米膠體磨，可選擇德國機械密封，轉(zhuǎn)速可以達到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內(nèi)膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

 

• 膠體磨頭和間距：IKN納米膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào)，可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差
• 機械密封：IKN納米膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至***低，可24小時不停運轉(zhuǎn)國內(nèi)膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

 
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定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
IKN管線式高剪切膠體磨與臥式膠體磨比較：
轉(zhuǎn)速和剪切力：
國內(nèi)膠體磨，3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切膠體磨，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計構(gòu)造：
國內(nèi)膠體磨，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉(zhuǎn)不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN高剪切膠體磨，立式分體結(jié)構(gòu)，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內(nèi)膠體磨，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至***低，可24小時不停運轉(zhuǎn)，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質(zhì)機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以***大承受16bar 壓力，根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口***大壓力可以達到12-13 bar .
產(chǎn)品效果：
國內(nèi)膠體磨，粒徑細(xì)度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切膠體磨，可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎
 
 

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