納米膠體磨,納米高速膠體磨,德國納米膠體磨,納米材料高速膠體磨,14000轉納米高速膠體磨,納米膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
納米研磨是顆粒細化到納米級后，其表面積累了大量的正、負電荷，納米顆粒的形狀極不規(guī)則，這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加，當降至1nm時，表面原子比例高達90%，原子幾乎全部集中到顆粒表面，處于高度活化狀態(tài)，導致表面原子配位數不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性，表現出強烈的表面效應，很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài)，從而團聚發(fā)生
眾所周知納米氧化物極易產生自身的團聚，使得應有的性能難以充分發(fā)揮。此外，納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮，還取決于***大限度降低粉體與介質間的表面張力。因此，納米氧化物粉體必須均勻分散，充分打開其團聚體，才能發(fā)揮其應有的奇異性能。
納米研磨效果影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點
2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
粉碎研磨分散的本質是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。
IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果
為了達到巨大的能量輸入，IKN采用提高定轉子轉速的方法。在電機固定三千轉的前提下，我們采用立式的結構通過皮帶加速達到15000轉。這很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高轉速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產生大量的熱而損毀泄露？主軸會不會偏振的很厲害，定轉子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關注點，也應該是廣大客戶在選型時應該重視的幾個方面。
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IKN納米膠體磨與國內膠體磨的性能比較：
一、轉速和剪切速率：IKN納米膠體磨，可選擇德國機械密封，轉速可以達到15000轉F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉，大約在14293-215440S-1通過轉速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍
二、膠體磨頭和間距：IKN納米膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。間距可調，可實現1-10微米小粒徑材料加工國內膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差
三、機械密封：IKN納米膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至***低，可24小時不停運轉國內膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
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定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
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